Joanneum Research MATERIALS
Inkjet
Beim [Tintenstrahldruck](https://www.joanneum.at/materials/forschungsbereiche/tintenstrahldruck) werden Einzeltröpfchen (Drop-on-demand) von niederviskosen Tinten auf das zu bedruckende Substrat kontaktlos aufgebracht. Die Tröpfchen werden dabei mittels Piezotechnik aus Düsen im Druckkopf freigesetzt. Industrielle Druckköpfe bestehen aus bis zu 2048 Druckdüsen, was einen hohen Parallelisierungsgrad ermöglicht. Bei MATERIALS stehen drei moderne Tintenstrahldrucker zur Verfügung, ein Dimatix DMP 2800 sowie zwei PIXDRO LP50 Druckplattformen, welche die Verwendung der wichtigsten industriellen Druckkopftypen ermöglichen.
Glovebox-Cluster
[Glovebox-Cluster inklusive Aufdampfanlage](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/reinraum-der-klasse-6-zertifiziert-gemaess-iso-14644)
Fotolithografie
Bei der [Fotolithografie](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/reinraum-der-klasse-6-zertifiziert-gemaess-iso-14644/fotolithografie) wird mit Hilfe eines Belichtungsprozesses das Bild einer sogenannten Maske auf einen lichtempfindlichen Lack übertragen. Anschließend werden entweder die belichteten Stellen des Fotolacks aufgelöst (positiver Lack) oder die unbelichteten Stellen (negativer Lack).
Reinraum (Partikelmessung)
[Reinheitsgrad](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/reinraum-der-klasse-6-zertifiziert-gemaess-iso-14644): max. 35.200 Partikel pro Kubikmeter, Größe ≥ 0,5 µm und max. 8.320 Partikel, Größe ≥ 1 µm pro Kubikmeter und max. 293 Partikel ≥ 5 µmLuftwechsel Primärluft: 12faches Raumvolumen / h Luftumwälzung über FFUs: 40 – 60faches Raumvolumen / h Temperatur Winter/Sommer: 21/24 ± 2 °C Relative Luftfeuchte 45 ± 10 %
NIL
[Nanoimprint-Lithographie](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/reinraum-der-klasse-6-zertifiziert-gemaess-iso-14644/nanoimprint-lithografie) bezeichnet die Herstellung mikro- oder nanostrukturierter Oberflächen mittels eines entsprechenden Prägeverfahrens. Mit dieser Technik können entweder thermoplastische Polymermaterialien verarbeitet werden (hot embossing) oder UV-härtende Präpolymere zum Einsatz kommen (UV-NIL).
RIE
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung von topografischen Strukturen für die Mikro- und Nanotechnologie ist das [reaktive Ionenätzen (RIE)](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/reinraum-der-klasse-6-zertifiziert-gemaess-iso-14644/reaktives-ionenaetzen-rie-o2/ar/n2/sf6/cfu). Es ist ein ionenunterstützter Reaktivätzprozess mit einer guten Kontrollierbarkeit des Ätzverhaltens bezüglich Homogenität, Ätzrate, Ätzprofil und Selektivität.
E-line (E-beam-litho)
Die [Elektronenstrahllithographie](https://www.joanneum.at/materials/infrastruktur/elektronenstrahl-lithografie) stellt durch direktes Einschreiben von Strukturen in ein geeignetes Material eine Möglichkeit hochaufgelöste Nanostrukturen zu erzeugen da. Bei der Rasterelektronenmikroskopie wird ein Elektronenstrahl in einem bestimmten Muster über das vergrößert abzubildende Objekt geführt. Durch die Wechselwirkungen der Elektronen mit dem Objekt wird ein Bild des Objekts mit hoher Schärfentiefe, erzeugt.
